第165章 恐怖的方向（1 / 2）

第165章  恐怖的方向

        王易开始了时不时进入超频的一个长期实验状态，外面的事都由林诗琴把控，可以便宜行事。

        一直也没有被打断进程。

        其实在完成了A1隐形眼镜镜片后，王易就一直在摸索魔力锁定电子能级，使得电子不吸收高能光子让高能光束可以通过。

        （这里可以复习一下105章后半段，毕竟挂在科幻频道，一些基本的还是要符合一下的好点。）

        一直以来的研究也按部就班的还算顺利，树脂透光的波长一直到了150nm左右。

        这可以说已经是相当夸张的一个成绩！

        当前极紫外线EUV光刻机还停留在阿斯麦的实验室阶段，或许已经出现了雏形和原型机，但EUV光刻机的本来目的是要量产芯片，加上需要真空环境，所以不管是到光刻机可以量产芯片还是到光刻机本身的商业化都还需要时间。

        目前最顶尖的光刻机，是阿斯麦弯道超车与积电理论合作弄出来的193nm波长浸润式DUV光刻机，因为利用液体折射率，使得明明193nm的深紫外线波长极限精度可以大大增加。

        虽说目前普遍芯片工艺都还是20nm以上，但浸润式的DUV光刻机理论精度可以达到极限7nm，不过要做到这一点也得配套的工艺上来，不是谁都能达到的。

        以前光刻机巨头的康尼和佳能，就是一直采用干式光刻机，只想着缩短光源波长，哪怕弄出了157nm波长光刻机也依然被阿斯麦无情的弯道超车，从而失去了客户。

        这就是尖端科技，赢者通吃！

        而DUV光刻机哪怕只是深紫外线，想要选择镜头也已经相当稀缺，可提供的选择大概就是氟化钙和氟化钡。

        深紫外线的光子能级太高了，太容易被吸收，这可是连臭氧层都进不来的光，树脂什么的就有些天方夜谭了。

        可王易之前靠着魔力对树脂内电子的加持，硬生生的撸到了150nm波长可以通过的程度。

        理论上这玩意儿拿出来，已经能够让卡尔蔡司这种企业头皮发麻，甚至对当前版本的光刻机进行一定程度的升级。

        只是这对于王易来说，却还是相当的不满意。

        他用的可是魔法科技，极限堆到150nm都这么吃力了，未来EUV光刻机已经接近X射线临界值的13.5nm，光子能级可是超过了150nm深紫外线能级的十倍！

        所以未来EUV光刻机选择的是不断的反射来进行汇聚调整，最终只有4%左右的利用率，这对光源功率、反射材料与精度的需求都极高。

        哪怕是王易，也不可能短时间全部克服这些问题！

        毕竟13.5nm的极紫外线，连空气都能电离了，反射材料本身也会有使用寿命的，还要考虑使用过程中光线对材料的破坏。

        这种高精度的设备，只要有轻微的破坏都足够导致天壤之别的结果。

        所以弯道超车的话，王易要撸出足够让这级别光线通过的材料才行！

        本来最开始，王易就是靠着法师塔魔力准备强压，一步一步的将透光率提高，以力证道。

        可这一次和这群数学家这么久的交流后，却完全为他打开了新的思路！

        就像阿斯麦先是靠浸润式光刻机弯道超车，然后在佳能、康尼也开始研究浸润式，并想要利用以前积累的技术再次反超时，阿斯麦直接新开赛道弄出了EUV光刻机，并一次性拉开了不可逾越的距离一样。

        现在王易也是完全换了一种思路，直接以魔力为能够吸收光的电子赋能，形成某种程度上的魔力电离，然后再想办法解决自由电子带来的金属性！

        堵不如疏！

        而如何压制的办法，也通过这段时间的头脑风暴得到了相应的数学模型。

        甚至，如果这个方向继续走下去的话，除了能制作出能通过极紫外线，乃至X射线的镜头外。

        还能牵扯到一个相当恐怖的应用区域。

        原子结构改变与聚变反应！

        聚变的本质是要让低序列元素的原子结构发生破坏，原子核互相结合成新元素。