第876章 “最难”的消息（2 / 2）

        比如他今天来到的这家“同辉胶卷”公司。

        <div  class="contentadv">        同辉胶卷创建于五十年代，以往主要生产制造各类相机胶卷和录像带，七十年代与时俱进，开创了一个全新部门——膜版部。

        研发制造光掩膜版。

        这玩意儿，是芯片制造的核心材料之一！

        正常情况下，制造芯片的第一步是光刻，也就是把电路图印到晶圆上。

        光刻之前，则需要准备掩膜版，就是根据事先设计好的电路图做成光罩。光罩类似于底片，光刻机的特殊光源通过光罩之后，再通过光刻胶，便能把电路图印在晶圆上。

        收购同辉胶卷公司，李建昆只为膜版部一个部门。

        当然了，如果没有这个部门，单从赚钱的角度讲，这家公司也是可以买的。

        大陆市场现在对彩色胶卷这种新鲜事物，需求量非常大，而这家公司在这方面，技术相当扎实，否则也生不出研发光掩膜版的信心。

        现在，李建昆穿着白大褂，身在一间纯白色的实验室里。

        戴同色手套的手上，拿着一只镊子，尖头上夹着一枚指甲盖大小的胶片类物品。

        这就是一片光掩膜版。

        看起来平平无奇，和普通胶片无异。

        但是制造难度相当之高。

        李建昆重生回来前的二零二零年代，全球光掩膜版市场，仍有七成以上的市场份额，掌握在美日韩企业手中。

        有这份技术在手，再加上光刻机，芯片制造的第一步工艺流程，算是完成一半了——

        还缺个光刻胶。

        不过，现在有个问题……

        “同辉制造光掩膜版的水平，能达到二档吗？”他侧头问，旁边候着七八个白大褂。

        近处一人，讪讪一笑，在这位面前自然不敢吹牛批：“只能到准三档。”

        李建昆喜悦的心情，黯淡下来不少。

        也就是说，连第三个层级都达不到。

        做是能做出来，但只能做出最差的……

        无独有偶，这不是李建昆遇到的第一个类似情况。

        昨天他去视察了一家化工用品厂，能够生产湿电子化学品。

        公司规模还不小，这类湿电子化学品，在半导体市场上应用广泛。

        无论是光刻芯片，还是蚀刻电路板，在制造过程中都要对晶圆反复进行冲洗，这时就需要用到湿电子化学品。

        种类繁多，譬如蚀刻液、显影液、极性溶液、氢氟酸、硫酸、双氧水、异丙醇等。

        这家现在华电旗下的化工用品厂也是一样。

        能生产出不少湿电子化学品，卖得还挺好，但都是最差的那种，堪称劣质。

        在高端芯片上，基本不能用……

        “想尽一切办法提升技术水平，把制造生产高端光掩膜版作为战略发展目标，总公司那边要钱给钱，要人招人，全力支持，我只有一个要求：

        “在最短的时间内，把技术水平提上去！”

        同辉公司陪同的几名高管，赶忙应是。

        削尖脑袋去钻研呗，还能有什么办法，这位都亲自发话了……

        李建昆暗叹口气，如他所想一样，收购整合这些公司后，的确能捯饬出一些芯片制造材料。

        然而，技术不过关。

        弄出来的都是很差的那种。

        这些公司仍需要大力发展，无底洞式地砸钱……

        他只能这样去安慰自己：

        1.质量好不好的，起码有了不少材料可用。

        2.对于许多材料来说，至少有个研发的底子了，不至于像无头苍蝇。

        离开同辉胶卷公司时，华电集团的副总吴博龙，看出大老板心有郁结，思忖着说：

        “董事长，我们最近在洽谈收购一家公司，如果成功拿下，能得到一种水准线以上的、芯片制造的关键材料。”

        “哦？什么？”李建昆问。

        “光刻胶。”

        李建昆：“！！！”

        他瞬间来了精神。

        在芯片制造的核心材料中，光刻胶绝对是个研发老大难，或许没有之一。

        比如特区华电研究院那边，对此一点头绪都没有。

        而像诸如湿电子化学品这类材料，华电研究院其实也有研究。

        光刻胶，听起来像一种胶水，事实上差也差不多。

        它是一种有机化合物，本身呈液体状，涂在晶圆表面，被紫外光曝光后，在显影溶液中的溶解度会发生变化，而后干燥成胶膜，能将光掩膜版上的图形转移到硅片上。

        这玩意儿难就难在，成分极其复杂，制造工艺难以掌握。

        光刻胶的主要成份有：高分子树脂、色浆、单体、感光引发剂、溶剂以及添加剂等。

        问题是什么溶剂，什么添加剂，都是个谜。

        搞明白这些还没有用，你得知道详细配比。

        开发所涉及的技术难题众多，需要从低聚物结构设计和筛选、合成工艺的确定和优化、活性单体的筛选和控制、色浆细度控制和稳定、产品配方设计和优化、产品生产工艺优化和稳定、最终使用条件匹配和宽容度调整等方面进行调整……

        晦涩不？

        这是研究院的大佬告诉李建昆的。

        然而，即使知道这玩意儿是怎么弄出来的，没有掌握具体信息，仍然无法开展有效研究。

        “哪家公司？”他眼冒绿光问。

        “星港化成。”吴博龙回道。

        “不惜一切代价拿下！”