第395章 与世界为敌（1 / 2）

第395章  与世界为敌

        《半导体行业的革新产品出现》

        《阿斯麦公司率先研发出EUV光刻机》

        《芯片工艺制程或将提升十倍》

        《芯片工艺已将达到物理极限》

        在依然还有着‘魔力’‘外星生物’这些热点的时候，阿斯麦的EUV光刻机在背后一群资本的运作下，立刻就登上了全球热点。

        本来正常来说，一件商品的更新迭代都是有迹可循的，或者说会有着技术储备。

        比如明明EUV光刻机是重新的新开赛道，和以前的DUV光刻机关系不大，但在平行世界这也硬是等到了芯片达到了DUV光刻机极限的7nm瓶颈后才拿出来的。

        但在这里，因为安布雷拉DUV光刻机带来的压力，还有人工智能以及量子计算+超算的模式前景摆在这里。

        为了重新争夺这尖端利润，为了更美好的前景。

        在如今最顶级的芯片工艺制程还是14nm的时候，阿斯麦公司就端出了他们的EUV光刻机。

        而且因为安布雷拉对镜片领域的影响加持，还有其他各方面技术带来的竞争感。

        阿斯麦这次提前拿出的EUV光刻机比原本计划的各项技术参数，还要更加优秀！

        某积电、四星、英特尔等晶圆厂都已经到货，并开始组装调试！

        显然阿斯麦的EUV光刻机并不是说刚刚才造出来的，是已经开始供货让他们加班加点的完成组装后才开始官宣的。

        为的就是一步到位，为的就是减少给竞争对手的反应时间！

        EUV光刻机比DUV要大得多，重量180吨，甚至连运输都需要专门的车辆，组装起来也相当麻烦。

        如果不是提前就已经为这些合作晶圆厂的工作人员进行了培训，从头开始的话安装调试个大半年都是相当正常的。

        而现在，在安布雷拉那边的压力下，不管是阿斯麦还是各大晶圆厂都拿出了自己的最大潜力，加班加点的全都联动了起来。

        在各路资本推波助澜的炒作下，配合着这次对于安布雷拉新增的多项制裁，也一下让很多人多缓过了神来。

        这一次，恐怕针对的就是安布雷拉！

        “好大的手笔！”

        “之前觉得世界公司已经很冤了，但对比一下针对安布雷拉的才可怕！”

        “世界公司只是顺带被波及的，主要目标都放在安布雷拉这的，实在是他们身上的利益太大了。”

        “阿斯麦好阴险啊，一直捂着不放，差不多一锤定音的时候就出来了。”

        “……”

        伴随着网络上的讨论发酵，等到热度达到峰值的时候，阿斯麦这边也进行了一个直播节目。

        同时有着某积电、四星、英特尔等诸多半导体工程师，还有一些芯片设计厂、封装厂等等的专业人士。

        站在一处厂房外，所有人脸上都是带着笑容。

        直播镜头前，由阿斯麦的工程师率先开口进行了介绍

        “恐怕很多人都没想到，我们会直接放弃原本成熟的DUV技术，直接从头开始的研发EUV光刻机。”

        一边说，他们还围绕着厂房一边走。

        “或许从最开始，就没人看好EUV光刻机，因为虽然理论上这能达到DUV光刻机的十倍分辨率，但实在是太难了，难度太大，需要突破的瓶颈太多，对技术的需求极高，克服的难点数不胜数。”

        一边说着他还一边打开了手环，形成了一个三维的全息投影简单的介绍道

        “大家都知道光刻机的本质就是曝光，DUV光刻机，我们还能找到对应的镜片让深紫外线通过，特别是后来安布雷拉的技术产出的新镜片，更是加强了这一点，安布雷拉自己的光刻机就是利用了这一点弯道超车，在不使用浸润法的情况下超过了我们的效率！”

        阿斯麦没有去贬低安布雷拉，甚至还可以说在旁边吹嘘。

        因为只有将安布雷拉的强大体现出来，才能说明他们更强！

        这是一个强大的对手，但还是输了，输在了我们面前！

        “但，这一点对EUV光刻机却是不行，我们使用的13.5nm波长极紫外线电离能力极强，没有镜头可以适合这种精度下让这种高能光束通过，所以唯一可以选择的办法，只有反射！”

        一边说着，全息图像上也进行了改变，讲解了一下大概的原理。

        就是不断利用一些镜片的反射来完成对极紫外线的汇聚。

        总共要完成十几次的反射才能达到最后的曝光要求！