第395章 与世界为敌(2 / 2)

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        “这对于反射镜片的精度需求可以说是极高的,要感谢卡尔蔡司公司在这方面的付出。”

        说完就对旁边卡尔蔡司的工程师做出了一个请的手势。

        卡尔蔡司公司的工程师也顺势站了出来礼貌的说道

        “我们同样利用到了安布雷拉的技术涂层,不过当然,就精度方面,我们还是有点自信的……”

        随后,阿斯麦的代表又介绍了他们的EUV光源。

        “之前说了,极紫外线需要通过十几次反射才能达到我们的效果,而因为极紫外线的电离消耗,每次反射都会损失大概30%左右的能量,最终我们能够有效利用的光只有大概2%,因此,我们需要光源有着足够且稳定的输出功率,为了克服这个问题Cymer公司可是花费了整整十年的时间来攻克,不过Cymer公司在三年前已经被我们公司完成了收购……”

        一边说着,他一边继续外放了全息画面,里面连原理都出来了,就是用高能激光不断轰击液态金属滴,难度和精确度看着他提供的数据就让人头皮发麻。

        只是制造出来不难,可要保持稳定和持久,还有足够输出功率的光源,那就要确保每次的撞击都极为精准,且频率要足够高。

        不断轰击滴落的金属液滴,各方面稍微有一点失误都是完全不同的。

        再后面随着不断的介绍,观众也明白了这台机器是怎么样组合起来的怪物。

        大漂亮的光源技术,霓虹的光源转换设备,高卢的阀件,普鲁士的镜头,瑞典的轴承,都需要极为精密,缺一不可,连安装都要极为精细要避开周边环境的轻微震动。

        甚至连运输光刻机的车辆,都是某积电的专利技术!

        直播到这里,很多观众眼里也就看明白了问题所在。

        EUV光刻机绝不是一个两个技术的问题,而是汇聚了全球所有最顶级的科技。

        而这些顶级巨头汇聚在一起,就是为了压下安布雷拉公司。

        还是直接靠着技术代差,一口气完成碾压的方式!

        这本身,也是一种秀肌肉的表现!

        如今,主流的芯片工艺才到14nm。

        然而EUV光刻机的理论极限却是能达到硅基芯片的极限,可以达到1nm!

        如果能解决隧穿问题,甚至还能更低!

        是,这不符合商业规律和利润。

        没有慢慢的更新迭代来进行收割。

        但没办法,安布雷拉这边杀出来太强了,他们的DUV光刻机性能太好,而且芯片简直就是处于黑盒状态完全摸不清。

        这种情况只能一口气拿出最好的将他们直接打倒。

        虽然芯片方面一下透支到了极限,但却可以在量子计算+超算以及人工智能方面补回来!

        安布雷拉人工智能再强,也是需要依托于硬件的!

        现在,阿斯麦就是在这里打明牌。

        我们,拥有着全球各种最强的技术。

        “这,就是我们的EUV光刻机,虽然现在才在各大晶圆厂完成安装调试,之后如何将工艺提升到极限还要看各大晶圆厂的手段,但我们的工具好歹已经制作完成,已经有了不断试错吸取经验的条件,可以不断向前,不断前进……

        “安布雷拉公司很强,非常强,强到让人叹为观止,我现在所展示的全息技术,我们镜片上强化的涂层,还有人工智能的结构等等,都奠定了安布雷拉的强大基础。

        “但,我们更强……”

        随后镜头拉远,也将阿斯麦和诸多参与了EUV零部件设计的公司,将EDA三大厂,将芯片设计厂,将晶原厂所有代表,全都同框。

        展现了他们巨大的底气与实力。

        之所以做出这个直播,就是为了向所有人宣告。

        他们,掌握着全球最顶级的技术。

        这种技术的沉淀,不是你短时间可以追赶上的!

        你或许能短期突破某个瓶颈,可你无法突破全部瓶颈!

        在伱追赶的时候,我们也会继续前行,永远走在前面,建好诸多壁垒堵住你的去路,让我们始终保持着差距!

        让我们始终占据着最大的利润!

        你们,在与世界为敌……

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        三更~第一更~

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